Dopage au bore du silicium amorphe hydrogène déposé par pulvérisation : Dépôt des couches minces de silicium amorphe hydrogéné dopé au bore par la technique pulvérisation D

Éditeur: Presses Académiques Francophones
2013112 pagesISBN 9783838179919
Format: PocheLangue : Français
Dès la découverte du silicium amorphe hydrogéné vers la fin des années soixante, de nombreux efforts de recherche ont été entrepris sur ce matériau afin d'arriver à mieux comprendre ses propriétés et élargir ses domaines d'application. Le grand avantage que ce matériau procure est la possibilité de le déposer en couches minces sur de grandes surfaces avec un faible coût...
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