Nouvelle technologie pour depot des couches minces

Éditeur: Presses Académiques Francophones
2018176 pagesISBN 9783838173979
Format: BrochéLangue : Français
Le présent travail est consacré à la simulation du rendement de pulvérisation des atomes de cuivre et d'argent dans un plasma d'argon durant le dépôt de couche minces en élaborant un model numérique de la simulation par la méthode de Monte Carlo ...
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