Cet ouvrage traite des procédés de dépôt de couches minces et de

revêtements de surface par réaction chimique à partir d'une

phase gazeuse. Ces procédés CVD ( Chemical Vapor Deposition )

sont utilisés au niveau industriel pour la fabrication des

dispositifs semi-conducteurs (circuits intégrés) ou la production

de revêtements protecteurs (anti-usure, anti-corrosion, anti-frottement).

Ce livre est constitué de trois parties principales traitant chacune

d'une famille particulière de procédés qu'on peut distinguer

suivant le mode d'activation de la réaction chimique mise en jeu :

activation thermique, activation par plasma ( plasma-enhanced

CVD) et activation par un faisceau de photons (procédés photo-CVD

et laser-induced CVD).

Le contenu de cet ouvrage intéresse le personnel technique, les

ingénieurs et chercheurs qui travaillent dans le secteur recherche

et développement ainsi que dans le secteur production de

couches minces ou de revêtements de surface. Les étudiants

d'IUT et d'écoles d'ingénieurs trouveront également les

principes, les modèles et les principales données fondamentales

concernant les procédés CVD couramment utilisés au niveau

industriel.