Elaboration de couches de TiN par dépôt chimique en phase gazeuse : Etude de la croissance et caractérisation
Éditeur: Editions Universitaires Européennes
2012232 pagesISBN 9783838181011
Format: BrochéLangue : Français
Ce travail porte sur l'élaboration et la caractérisation des films de nitrure de titane déposés sur silicium par CVD à partir des précurseurs : tétrachlorure de titane (TiCl4), ammoniac (NH3) et hydrogène (H2). Les films sont réalisés dans un réacteur basse pression à chauffage rapide (RTLPCVD)...
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