Relation microstructure et propriété des films de ZrO2 par MOCVD : couches minces, contrainte résiduelle, gradient de contrainte, structure cristalline, texture
Éditeur: Presses Académiques Francophones
2014192 pagesISBN 9783838146324
Format: PocheLangue : Français
Les films de ZrO2 pur sont déposés par MOCVD en variant de nombreux paramètres du processus. L'influence des conditions de dépôt sur l'évolution de la microstructure a été étudiée et clarifiée. Par des analyses approfondies des résultats expérimentaux, trois mécanismes typiques de croissance de dépôt de ZrO2 ont été proposées...
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