Déposition de couche mince a-si:h par procédé pecvd
Éditeur: Editions Universitaires Européennes
2014112 pagesISBN 9783841741769
Format: BrochéLangue : Français
Cet ouvrage est une étude sur la déposition de couche mince a-Si:H élaborée à partir d'un mélange (SiH4 + H2) par les procédés CVD assistés par plasma. Pour la simulation numérique, nous avons utilisé la méthode de Monte Carlo...
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